韩媒:韩国本土企业在 EUV 光刻技术方面取得重大进展

发布时间:2022年08月15日

       11月16日消息 据韩国媒体BusinessKorea上周报道, 韩国本土企业在EUV光刻技术方面取得了长足进步。
       但并未提及是哪家公司, 按理推测应该是指韩国整个半导体光刻行业。 ▲图片来源BusinessKorea EUV光刻技术是多层反射镜、多层掩模、保护膜、光源和注册表等多种先进技术的综合体。在过去的十年中, 包括三星电子在内的全球公司都进行了深入的研发, 以确保技术处于领先地位。最近, 代工公司(即三星)开始使用 5nm EUV 光刻技术来生产用于智能手机的应用处理器(AP)。
       按公司分, 全球六大公司占专利申请总数的59%, 卡尔蔡司(德国)占18%, 三星电子(韩国)占15%, ASML(荷兰)占11%, SSTech(韩国)占11%。 8%。 )、台积电 (台湾) 6% 和 SK 海力士 (韩国) 1%。从具体技术项目来看, 曝光装置技术专利申请占比31%,

掩模技术专利申请占比28%, 其他专利申请占比9%。在制程技术领域, 三星电子占39%, 台积电占15%。在光掩模领域,

SS Technology占28%, Hoya(日本)占15%, 汉阳大学(韩国)占10%, 旭硝子(日本)占10%,

三星电子占9%。韩媒也提到了韩国专利据韩国知识产权局(KIPO)发布的《过去10年(2011-2020)专利申请报告》显示, 2019年,

韩国提交的专利申请数量为40件, 超过了外国公司的10件。
       韩媒称, 这是韩国提交的专利申请数量首次超过外国公司。到 2020 年, 韩国提交的专利申请数量也将是外国公司的两倍多。
       

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